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1.負(fù)責(zé)光刻膠等半導(dǎo)體薄膜材料的性能檢測(cè)與表征分析，重點(diǎn)負(fù)責(zé)使用橢偏儀進(jìn)行膜厚和光學(xué)常數(shù)的精確測(cè)量。
2.操作和維護(hù)橢偏儀等薄膜檢測(cè)設(shè)備，確保設(shè)備狀態(tài)良好與數(shù)據(jù)準(zhǔn)確可靠。
3.建立、優(yōu)化與驗(yàn)證橢偏儀測(cè)量模型，以提高對(duì)不同材料體系測(cè)量的精確度。
4.對(duì)測(cè)試數(shù)據(jù)進(jìn)行分析、統(tǒng)計(jì)與解讀，撰寫詳細(xì)規(guī)范的檢測(cè)與分析報(bào)告，及時(shí)反饋異常數(shù)據(jù)。
5.協(xié)助研發(fā)與工藝部門進(jìn)行新材料開發(fā)與工藝優(yōu)化，提供關(guān)鍵的薄膜特性數(shù)據(jù)支持。
6.參與維護(hù)實(shí)驗(yàn)室質(zhì)量體系，編寫和更新設(shè)備操作規(guī)范。

任職要求：

1.本科及以上學(xué)歷，物理學(xué)、光學(xué)工程、材料科學(xué)、微電子等相關(guān)專業(yè)。
2.2年以上半導(dǎo)體、光學(xué)鍍膜或材料檢測(cè)領(lǐng)域工作經(jīng)驗(yàn)，具備熟練操作橢偏儀進(jìn)行測(cè)量的實(shí)際經(jīng)驗(yàn)。
3.具備橢偏儀數(shù)據(jù)建模和數(shù)據(jù)分析能力，有建立光學(xué)模型、擬合經(jīng)驗(yàn)者優(yōu)先。
4.熟悉半導(dǎo)體薄膜材料特性，了解基本制備工藝，有光刻膠檢測(cè)經(jīng)驗(yàn)者更佳。
5.具備良好的數(shù)據(jù)敏感度、邏輯分析能力和報(bào)告撰寫能力。
6.工作嚴(yán)謹(jǐn)細(xì)致，有強(qiáng)烈的責(zé)任心和良好的團(tuán)隊(duì)溝通意識(shí)。