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任職要求：

1） 教育背景： 物理、應(yīng)用物理、光學(xué)工程、材料學(xué)等相關(guān)專業(yè)碩士或博士學(xué)歷。3年以上工作經(jīng)驗優(yōu)先

2） 專業(yè)技能： o 扎實的光刻和激光直寫技術(shù)基礎(chǔ)，熟悉光刻、電子束直寫工藝。 o 具備光路設(shè)計與搭建經(jīng)驗，熟悉光學(xué)器件的選型、布局和調(diào)試。 o 具備微納加工工藝開發(fā)經(jīng)驗，熟悉鍍膜（如磁控濺射、電子束蒸發(fā)、熱蒸發(fā)等）和刻蝕（如濕法、RIE、ICP等）工藝。

3） 分析與解決問題能力： 具備獨立分析和解決復(fù)雜工藝問題的能力，對挑戰(zhàn)性問題充滿熱情。

4） 溝通與團(tuán)隊合作： 良好的溝通能力和團(tuán)隊合作精神，能夠與不同部門有效協(xié)作。

5）經(jīng)驗要求： 有相關(guān)實驗室實踐經(jīng)驗或在知名公司/實驗室進(jìn)行相關(guān)方向?qū)嵙?xí)的經(jīng)驗者優(yōu)先。

6）其他： 工作細(xì)致，有責(zé)任心，具備良好的學(xué)習(xí)能力和創(chuàng)新意識。